掩膜版又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形,并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上,下面就由上海申菲給大家簡要介紹。
掩膜版是芯片制造過 程中的圖形“底片”,用于轉(zhuǎn)移高精密電路設(shè)計,承載了圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息。掩模版用于芯片 的批量生產(chǎn),是下游生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分,是芯片精度和質(zhì)量的決定因素之一。
掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機的底片。制造商通常根據(jù)客戶所需要的圖形,用光刻機在原材料上光刻出 相應(yīng)的圖形,將不需要的金屬層和膠層洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖 形的感光空白板。通過光刻制版工藝,將微米級和納米級的精細(xì)圖案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要體現(xiàn)為利用已設(shè)計好的圖案,通過透光與非透光方式進(jìn)行圖像(電路圖形)復(fù)制,從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。
掩膜版質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響光刻的質(zhì)量。在芯片制造過程中需要經(jīng)過十幾甚至幾十次的光刻,每次光刻都 需要一塊光刻掩膜版,每塊光刻掩膜版的質(zhì)量都會影響光刻的質(zhì)量。光刻過程中,通常通過一系列光學(xué)系統(tǒng), 將掩膜版上的圖形按照 4:1 的比例投影在晶圓上的光刻膠涂層上。由于在制作過程中存在一定的設(shè)備或工藝局 限,光掩膜上的圖形并不可能與設(shè)計圖像完全一致,即在后續(xù)的硅片制造過程中,掩膜板上的制造缺陷和誤差 也會伴隨著光刻工藝被引入到芯片制造中。因此光掩膜的品質(zhì)將直接影響到芯片的良率和穩(wěn)定性。
以上就是上海申菲關(guān)于掩膜版的分享,希望能給大家提供到幫助,了解更多關(guān)于掩膜版的問題歡迎來電咨詢,如您需要,竭誠為您服務(wù)。